Harrick等離子清洗機采用電感耦合高密度等離子體(ICP),能快速去除晶圓上之殘留光阻(光刻膠),達到晶圓表面潔凈,Harrick等離子清洗機具有蝕刻率高,無電極污染,離子能量低,不損傷基板等優點。
Harrick等離子清洗機的結構組成,主要都是由兩個部分組成:
一是,等離子發生器,該部分由集成電路、運行控制、等離子發生電源、氣源處理、安全防護等組成。
二是,等離子處理裝置,該部分由激發電極、激發氣路等組成。
Harrick等離子清洗機預處理工藝的優點:
?。薄⒈砻婊罨浅S行Ф揖鶆?,所處理的表面上不會有熱量累積。
?。?、無外殼變形
3、可降低壁厚,節省了材料
?。础⒖梢蕴幚碚麄€粘接面,包括膠槽底部和側壁
?。怠⒄麄€接合表面的預處理,包括凹槽的根部和側壁
Harrick等離子清洗機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場,用真空泵實現一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發生碰撞而形成等離子體,這時會發出輝光,故稱為輝光放電處理。 輝光放電時的氣壓大小對材料處理效果有很大,影響另外與放電功率,氣體成分及流動速度、材料類型等因素有關。